Programme
Heures |
événement |
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13:00 - 13:30
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Accueil à partir de 13H avec un café-thé |
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13:30 - 14:00
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Introduction Renatech/renatech J.L. LECLERCQ + et tour de table - Tous |
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14:00 - 14:30
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Epicentre: a RIBER/LAAS-CNRS joint lab for optimization and automation of MBE process - Alexandre Arnoult - LAAS |
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14:30 - 15:00
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EZ-curve characterization - Pierre-Alexis LE GÔ- société RIBER |
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15:00 - 15:30
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SiGe avec différents procédés de fabrication sur substrats patternés ou non - Antoine Ronda - IM2NP |
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15:30 - 16:00
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Perspectives de l’intégration hétérogène pour la photonique et l’énergie sur un nouveau cluster d’épitaxie - Rozenn Gautheron-Bernard - INSTITUT FOTON |
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16:00 - 16:30
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Pause café |
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16:30 - 17:00
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The HVPE technique for the growth of III-As and III-N micro and nanostructures - INSTITUT PASCAL (visio) - Geoffrey Avit |
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17:00 - 17:30
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Oxyde fonctionnel - C2N - Davide Cammilleri |
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17:30 - 18:00
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High Resolution X-Ray Diffraction from PZT Capacitors with Micrometer Beamsize - Martin Tremblay société BRUKER |
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18:00 - 19:00
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session poster - Tous |
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Heures |
événement |
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09:00 - 09:30
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Cluster MBE-CVD dédié à la croissance des matériaux 2D - Stéphane Vézian - CHREA |
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09:30 - 10:00
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MOCVD : une méthode de dépôt polyvalente pour ajuster la composition et la morphologie des films minces d'oxydes fonctionnels - Carmen Jimanez - LMGP |
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10:00 - 10:30
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Projet PIA Equipex et Nanofutur à l'INL - Philipe Regregny - INL |
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10:30 - 11:00
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Pause café |
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11:00 - 11:30
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Vers un nouveau cluster d'épitaxie pour la spintronique et la supraconductivité - Martina Morassi -C2N |
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11:30 - 12:00
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Bilan de la réunion - Tous |
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12:00 - 13:00
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Visite - Salle Blanche du LAAS |
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