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13:00 - 13:30
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Accueil à partir de 13H avec un café-thé |
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13:30 - 14:00
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Introduction Renatech/renatech J.L. LECLERCQ + et tour de table - Tous |
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14:00 - 14:30
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Epicentre: a RIBER/LAAS-CNRS joint lab for optimization and automation of MBE process - Alexandre Arnoult - LAAS |
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14:30 - 15:00
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EZ-curve characterization - Pierre-Alexis LE GÔ- société RIBER |
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15:00 - 15:30
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SiGe avec différents procédés de fabrication sur substrats patternés ou non - Antoine Ronda - IM2NP |
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15:30 - 16:00
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Perspectives de l’intégration hétérogène pour la photonique et l’énergie sur un nouveau cluster d’épitaxie - Rozenn Gautheron-Bernard - INSTITUT FOTON |
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16:00 - 16:30
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Pause café |
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16:30 - 17:00
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The HVPE technique for the growth of III-As and III-N micro and nanostructures - INSTITUT PASCAL (visio) - Geoffrey Avit |
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17:00 - 17:30
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Oxyde fonctionnel - C2N - Davide Cammilleri |
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17:30 - 18:00
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High Resolution X-Ray Diffraction from PZT Capacitors with Micrometer Beamsize - Martin Tremblay société BRUKER |
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18:00 - 19:00
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session poster - Tous |
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